氯化氫

    技術再精湛的生產(chǎn)企業(yè)，再先進的生產(chǎn)設備，所得到的氯化氫氣體也不可能達到100%的純度，多少都會混有少許其他氣體以及雜質(zhì)。比如氯氣，那么我們要想得到純凈的氣體應怎樣去除混有的氯氣呢？
    下面介紹幾種方法；通到四氯化碳等有機溶劑中洗氣即可；可以通入溴化鈉或溴化鉀或碘化鈉或碘化鉀溶液里，讓氯氣置換出溴單質(zhì)和碘單質(zhì)。只要找所找的鹽溶液里含有比氯的氧化性弱的非金屬元素就行，但要注意，氯氣置換出的單質(zhì)不能是氣體，這是為了防止再與氯化氫混合。氯氣具有強氧化性，活性炭具有強還原性，二者會發(fā)生氧化還原反應而將氯氣除去，而氯化氫氣體不具有強氧化性，故此方法可行。最后氯化氫氣體也要溶于水制鹽酸。
    我們之所以除去氯化氫氣體中混有的少許氯氣的主要原因是因為工業(yè)上的尾氣不能直接排放到大氣中，以防氯氣含量超過標準。有了這些去除氯化氫氣體中氯氣的方法我們就可以得到相對純凈的氯化氫氣體了。
    氯化氫氣體為強刺激性，不燃氣體，溶水后有強烈腐蝕性。產(chǎn)品包裝于高壓專用鋼瓶中，處于液態(tài)。專用鋼瓶為鋼質(zhì)無縫氣瓶，瓶內(nèi)拋光處理。瓶閥為抗腐蝕不銹鋼隔膜閥。鋼瓶設計壓力為12.5Mpa,工作壓力約5-6Mpa。
    化學級氯化氫產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于1993年投產(chǎn)，經(jīng)山東省科委鑒定，主要用于醫(yī)藥中間體、農(nóng)藥及精細化學品制造業(yè)。電子級(VLSI)氯化氫產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于2003年投產(chǎn)，經(jīng)北京市科委鑒定，主要用于半導體器件生產(chǎn)中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質(zhì)合金制造。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產(chǎn)品分別經(jīng)國家標準物質(zhì)研究中心和信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心抽樣檢驗，純度大于99.999%，總雜質(zhì)含量小于5ppm，產(chǎn)品性能指標與國 際品牌相當。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產(chǎn)品經(jīng)國內(nèi)外多家半導體重點企業(yè)連續(xù)大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，制得的器件產(chǎn)品質(zhì)量與國際知名品牌相當。超純氯化氫產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于2005年投產(chǎn)，目前處于試銷階段，主要用作標準物質(zhì)和科學研究。